单项选择题
A1/A2型题
记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）
A.1／3～1／2
B.1／4～1／2
C.2／3～3／4
D.1／5～1／3
E.1／2～3／4
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单项选择题
模型灌注后适宜的脱模时间为（）
A.1～2小时
B.2～4小时
C.6～8小时
D.12小时
E.24小时 -
单项选择题
模型底座厚薄适宜，一般腭顶和口底，的最薄处应保持（）
A.3～5mm
B.1～2mm
C.5～10mm
D.10～20mm
E.30mm -
单项选择题
遮色瓷厚度应掌握在（）
A.1～2mm
B.1～0.2mm
C.2～0.3mm
D.2～3mm
E.越薄越好
