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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

单项选择题

当需要刻蚀的图形尺寸大于3um时,一般使用()。

    A.湿法刻蚀
    B.溅射刻蚀
    C.等离子体刻蚀
    D.反应离子刻蚀

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