相关考题
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多项选择题
对正性光刻胶特性表述正确的是（）。
A.分辨率高
B.显影时曝光部分不溶解，未曝光部分溶解
C.分辨率低
D.显影时曝光部分溶解，未曝光部分不溶解 -
多项选择题
提高光刻分辨率的途径有（）。
A.增大数值孔径NA
B.增大曝光波长
C.减小曝光波长
D.减小数值孔径NA -
多项选择题
光刻工艺流程中后烘的作用是（）。
A.消除驻波效应
B.蒸发PR中所有有机溶剂
C.提高光刻胶和表面的黏附性
D.平滑光刻胶侧壁
