相关考题
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多项选择题
下列关于LPCVD的描述正确的有（）。
A.扩散控制
B.严格控制温度
C.反应控制
D.低温淀积工艺 -
多项选择题
影响淀积速率的因素有（）。
A.降低δs
B.增加Um
C.减小基座长度L
D.增加温度 -
多项选择题
Grove模型建模时，关注的主要运动形式有（）。
A.反应运动
B.扩散运动
C.脱吸运动
D.漂移运动
