欢迎来到在线考试题库网
在线考试题库官网
登录
注册
首页
医学类
建筑类
财经类
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
微电子学
搜题找答案
填空题
干法刻蚀的方式主要有：溅射刻蚀、等离子体刻蚀、（）刻蚀三种。
【参考答案】
反应离子
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
填空题
多组分多源蒸发的方法有：同时蒸发，（）蒸发两种。
填空题
制备TiO2等介质薄膜可以采用（）溅射方法。
填空题
在硅片上热氧化0.5μm厚的氧化层时，硅片增厚了（）μm。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
