相关考题
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多项选择题
LPCVD系统与PECVD系统相比，它们的相同点有（）。
A.产量低
B.可淀积Si3N4等
C.台阶覆盖好
D.反应控制 -
多项选择题
APCVD系统的缺点有（）。
A.均匀性差
B.易发生气相反应
C.台阶覆盖
D.高温工艺 -
多项选择题
下列关于LPCVD的描述正确的有（）。
A.扩散控制
B.严格控制温度
C.反应控制
D.低温淀积工艺
