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薄膜物理与技术
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判断题
Si
3
N
4
可以被用做硅片的钝化保护层，也被用做掩蔽膜，还可应用于电容。（）
【参考答案】
正确
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判断题
在CVD反应中低压的作用就是使反应物更快地到达衬底表面。（）
判断题
膜的应力要尽可能小，因为应力会导致衬底发生凸起或凹陷的变形，所有的淀积都会在膜中产生应力。（）
判断题
通过调节P5000基座水平可改善淀积膜厚的均匀性。（）
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