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单项选择题
以下工艺中，方块电阻是一个重要的参数，一般用于衡量（）工艺中杂质情况。
A.氧化
B.扩散
C.光刻
D.刻蚀 -
单项选择题
在制作MOS管时，采用LOCOS工艺容易出现（）。
A.沟道效应
B.鸟嘴效应
C.寄生效用
D.闩锁效应 -
单项选择题
光刻时，将掩模版直接放在晶圆表面，与表面的光刻胶接触，该种光刻方式称为（）。
A.接触式
B.接近式
C.投影式
D.步进式
