相关考题
-
单项选择题
化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个？（）
A.还原剂
B.分散剂
C.腐蚀介质
D.磨料 -
多项选择题
CMP的设备构成包括（）。
A.台板
B.抛光液
C.抛光垫
D.夹持设备 -
多项选择题
新的平坦化方法有哪几个？（）
A.固结磨料CMP技术
B.无磨粒CMP技术
C.无应力抛光技术
D.电化学机械平坦化技术
