相关考题
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单项选择题
进行光刻工艺前的清洗步骤是（）。
A.碱溶液清洗
B.有机溶液清洗
C.HF结尾的清洗工艺
D.去离子水冲洗 -
多项选择题
刻蚀过程中聚合物形成的来源有（）。
A.光刻胶
B.Si衬底
C.刻蚀气体中的碳和其它物质组成的化合物
D.刻蚀溶液 -
多项选择题
掺杂后，退火的目的是（）。
A.实现电激活
B.修复损伤
C.提高掺杂均匀性
D.加大损伤
