多项选择题
光刻工艺的特点包括（）。
A.决定特征尺寸的关键工艺
B.光刻与芯片的价格和性能密切相关
C.光刻工艺过程复杂
D.复印图像和化学作用相结合的综合性技术
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单项选择题
光刻工艺的设备核心是（）。
A.掩膜版
B.对准和曝光
C.光刻机
D.光刻胶 -
单项选择题
进行光刻工艺前的清洗步骤是（）。
A.碱溶液清洗
B.有机溶液清洗
C.HF结尾的清洗工艺
D.去离子水冲洗 -
多项选择题
刻蚀过程中聚合物形成的来源有（）。
A.光刻胶
B.Si衬底
C.刻蚀气体中的碳和其它物质组成的化合物
D.刻蚀溶液
