单项选择题
基于LSS理论，离子注入受到靶原子核与电子的阻止，（）。
A.核阻止和电子阻止是独立的
B.核阻止本领>电子阻止本领
C.核阻止本领< 电子阻止本领
D.核阻止和电子阻止与入射离子能量无关
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单项选择题
CVD可分为低温工艺、中温工艺、高温工艺，不同温度制备的同种薄膜（如SiO2）的密度（）
A.温度升高，略有下降
B.与温度无关
C.温度升高，略有增加
D.都相同 -
单项选择题
看图判断下列描述是否正确？（）
A.是有限源扩散，杂质浓度分布是高斯函数
B.是有限源扩散，杂质浓度分布是余误差函数
C.是恒定源扩散，杂质浓度分布是余误差函数
D.是恒定源扩散，杂质浓度分布是高斯函数 -
单项选择题
关于硅的热氧化，下面哪种说法正确？（）
A.湿氧比干氧慢得多
B.氧化反应是在Si/SiO2界面发生的
C.水汽氧化层比干氧氧化层致密
D.升高氧气（或水汽）分压不影响生长速率
