多项选择题
CVD基本过程包括（）。
A.在表面进行化学反应，在表面淀积成薄膜
B.副产物脱离吸附
C.脱吸副产物逸出反应室
D.反应剂传输至衬底表面，反应剂吸附在表面
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多项选择题
CVD薄膜有哪些应用？（）
A.钨塞
B.钝化层
C.层间介质BPSG -
多项选择题
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A.SiO2
B.单晶硅
C.BSG
D.Si3N4 -
多项选择题
溅射方法从本质上可分为（）。
A.反应溅射
B.直流溅射
C.磁控溅射
D.射频溅射
